In onlangse jare het grafeen na vore gekom as 'n belowende materiaal met 'n wye reeks toepassings, soos elektronika, energieberging en sensoriese vermoëns. Die produksie van hoëgehalte-grafeen bly egter 'n uitdaging. Koperfoelie, met sy uitstekende termiese en elektriese geleidingsvermoë, het 'n sleutelmateriaal in die produksie van grafeen geword.
As 'n toonaangewende vervaardiger en verskaffer van koperfoelie,CIVEN METAALhet 'n belangrike rol in die grafeenbedryf gespeel. Die maatskappy se hoëgehalte-koperfoelie word wyd gebruik in die produksie van hoëgehalte-grafeen, danksy sy uitstekende eienskappe soos hoë termiese geleidingsvermoë, hoë elektriese geleidingsvermoë en goeie adhesie aan substrate.
In die vervaardigingsproses van grafeen word koperfoelie tipies gebruik as 'n substraat vir chemiese dampafsetting (CVD), wat een van die mees gebruikte metodes is vir die vervaardiging van hoëgehalte-grafeen. Koperfoelie dien as 'n groeiplatform vir grafeen, en dit bied goeie termiese geleidingsvermoë vir hitte-afvoer tydens die CVD-proses. Boonop kan koperfoelie maklik van die grafeenfilm afgeskil word na groei, wat krities is vir die oordrag van grafeen na ander substrate.
Koperfoelie vanCIVEN METAALhet verskeie voordele bo ander verskaffers in die mark. Eerstens gebruik die maatskappy hoë-suiwer grondstowwe en gevorderde produksietegnieke om die eenvormigheid en konsekwentheid van die koperfoelie te verseker. Tweedens het die maatskappy se koperfoelie 'n hoë mate van oppervlakgladheid, wat noodsaaklik is vir die groei van hoëgehalte-grafeen. Laastens bied die maatskappy pasgemaakte koperfoelie-oplossings wat op die spesifieke vereistes van kliënte afgestem is.
Ten slotte speel koperfoelie 'n kritieke rol in die produksie van hoëgehalte-grafeen, en CIVEN METAL se hoëgehalte-koperfoelie het 'n beduidende bydrae tot die grafeenbedryf gelewer. Met sy uitstekende eienskappe en pasgemaakte oplossings is CIVEN METAL goed geposisioneer om in die groeiende vraag na koperfoelie in die grafeenbedryf te voorsien.
Plasingstyd: 3 April 2023